- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteurs; matériaux à cet effet; originaux à cet effet; appareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 7/021 - Composés de diazonium macromoléculaires; Additifs macromoléculaires, p.ex. liants
Détention brevets de la classe G03F 7/021
Brevets de cette classe: 32
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
Proprétaire |
Total
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Cette classe
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FUJIFILM Corporation | 27102 |
4 |
Boe Technology Group Co., Ltd. | 35384 |
3 |
Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd. | 546 |
2 |
Wacker Polymer Systems GmbH & Co. KG | 30 |
2 |
Industrial Technology Research Institute | 4898 |
1 |
Eastman Kodak Company | 3444 |
1 |
Samsung SDI Co., Ltd. | 6671 |
1 |
Brewer Science Inc. | 231 |
1 |
DIC Corporation | 3597 |
1 |
Dongjin Semichem Co., Ltd. | 438 |
1 |
Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co., Ltd. | 2483 |
1 |
Illumina, Inc. | 2771 |
1 |
Institute of Chemistry, Chinese Academy of Sciences | 215 |
1 |
Kiian S.p.A. | 3 |
1 |
Korea Institute of Machinery & Materials | 677 |
1 |
Mercene Labs AB | 11 |
1 |
Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | 3188 |
1 |
Murakami Co., Ltd. | 9 |
1 |
Promerus, LLC | 172 |
1 |
San-Apro Limited | 73 |
1 |
Autres propriétaires | 5 |